بنے ہوئے مادہ جیسے دھاتیں، مرکبات، وغیرہ وغیرہ کو چھپایا جاتا ہے یا بپتسمہ کے طور پر گرم تار پر بپتسمہ دینے والی ذریعہ کے طور پر رکھتا ہے، اور اس طرح کے دھاتیں، سیرامکس، پلاسٹک وغیرہ وغیرہ کے طور پر پلاٹ کرنے کے لئے ذائقہ کر رہے ہیں. نظام کے بعد ایک ہائی ویکیوم پر پمپ کیا جاتا ہے تو، مادہ کو سنبھالنے سے بھرا ہوا ہے. تجزیہ کردہ مواد کے جوہری یا انوولس کو سوراخ کرنے والی شکل میں سبسیٹس کی سطح پر جمع کیا جاتا ہے. فلم موٹائی سینکڑوں انگوٹھوں سے کئی مائکرون تک پہنچ سکتی ہے. اس فلم کی موٹائی کو بپتسمہ دینے والی شرح اور صابن کے ذریعہ (یا چارج کی مقدار پر منحصر ہے) کے ذریعہ مقرر کیا جاتا ہے اور ذریعہ اور سبسیٹیٹ کے درمیان فاصلے سے متعلق ہے. بڑے علاقے کی کوٹنگ کے لئے گھومنے والی سبسیٹیٹ یا ایک سے زیادہ بپتسمہ دینے والے ذرائع اکثر فلم استعمال کی موٹائی کو یقینی بناتے ہیں. سبسیٹیٹس پر واپرپوریشن ذریعہ سے فاصلہ بقایا گیس میں ویر انووں کے معنی مفت راستے سے کم ہونا چاہئے تاکہ کیمیکل ردعمل پیدا کرنے کے لئے وانپ انوکول بقایا گیس انووں کے ساتھ ٹھوس نہ ہو. وانپر انوولوں کی اوسط متحرک توانائی تقریبا 0.1-0.2 برقی وولٹ ہے.
بنے ہوئے مادہ جیسے دھاتیں، مرکبات، وغیرہ وغیرہ کو چھپایا جاتا ہے یا بپتسمہ کے طور پر گرم تار پر بپتسمہ دینے والی ذریعہ کے طور پر رکھتا ہے، اور اس طرح کے دھاتیں، سیرامکس، پلاسٹک وغیرہ وغیرہ کے طور پر پلاٹ کرنے کے لئے ذائقہ کر رہے ہیں. نظام کے بعد ایک ہائی ویکیوم پر پمپ کیا جاتا ہے تو، مادہ کو سنبھالنے سے بھرا ہوا ہے. تجزیہ کردہ مواد کے جوہری یا انوولس کو سوراخ کرنے والی شکل میں سبسیٹس کی سطح پر جمع کیا جاتا ہے. فلم موٹائی سینکڑوں انگوٹھوں سے کئی مائکرون تک پہنچ سکتی ہے. اس فلم کی موٹائی کو بپتسمہ دینے والی شرح اور صابن کے ذریعہ (یا چارج کی مقدار پر منحصر ہے) کے ذریعہ مقرر کیا جاتا ہے اور ذریعہ اور سبسیٹیٹ کے درمیان فاصلے سے متعلق ہے. بڑے علاقے کی کوٹنگ کے لئے گھومنے والی سبسیٹیٹ یا ایک سے زیادہ بپتسمہ دینے والے ذرائع اکثر فلم استعمال کی موٹائی کو یقینی بناتے ہیں. سبسیٹیٹس پر واپرپوریشن ذریعہ سے فاصلہ بقایا گیس میں ویر انووں کے معنی مفت راستے سے کم ہونا چاہئے تاکہ کیمیکل ردعمل پیدا کرنے کے لئے وانپ انوکول بقایا گیس انووں کے ساتھ ٹھوس نہ ہو. وانپر انوولوں کی اوسط متحرک توانائی تقریبا 0.1-0.2 برقی وولٹ ہے.
واپپوریشن کے ذرائع کے تین قسم ہیں. (1) مزاحمت گرمی کا ذریعہ: ایک مستحکم دھات جیسے ٹونگسٹن یا ٹنٹالم ایک کشتی کا ورق یا ایک تناسب بنانے کے لئے استعمال کیا جاتا ہے، جو برقی موجودہ، گرم اس کے اوپر گرم، یا ایک قابل عمل میں رکھا جاتا ہے (Figure 1 [evaporation of schematic diagram کوٹنگ کا سامان]). ذریعہ بنیادی طور پر سی ڈی، پی بی، اگ، ال، کاؤ، کر، ایو، نی اور دیگر مواد کو پھیلانے کے لئے استعمال کیا جاتا ہے. 2 ہائی فریکوئینسی انچارج گرمی کا ذریعہ: گرمی ہالی وڈ اور ویرورائزڈ مواد کو اعلی تعدد تعدد کا استعمال کریں. 3 برقی بیم حرارتی ذریعہ: اعلی واپرپوریشن کا درجہ حرارت (2000 سے کم نہیں [618-1] کے ساتھ مناسب ہے، جو کہ الیکٹران بیم کے ساتھ مسمار کرنے کے لئے مواد کو بمباری کرتا ہے.